随着特征尺寸的不断缩小，以及多次自对准图形的广泛采用，对于薄膜制备所需要考量的均匀性、一致性、密度和厚度等需求变得越来越严苛。
在Low-k材料被广泛应用后，TiN Hardmask薄膜因可以帮助在via/trench刻蚀后获得更佳的形貌，已成为不可或缺的关键工艺。根据这一需要，北方华创的exiTin H430 PVD系统应运而生。
由北方华创自主研发，应用于28纳米工艺的exiTin H430 TiN PVD沉积系统具有独特的工艺控制技术，设备兼容性强，工艺稳定，颗粒表现佳，灵活的设计可以为客户工艺集成提供更大空间，同时也为客户降低了生产成本。
北方华创的exiTin H430 PVD系统从2012年开始进入客户端，其TiN膜厚均匀性及电阻均匀性等关键技术指标优于国际主流设备，实现了我国高端集成电路装备的技术跨越。2015年，该设备作为国产设备仅有的代表通过国际知名集成电路设计企业的产品验证，并成为在28纳米生产线首台基准国产高端装备（Baseline）。近期该设备又获得知名芯片制造企业颁发的稳定量产100万片纪念奖杯，这是国产PVD设备市场化进程中的又一个重要的里程碑。
