2017年12月5日，由北方华创下属子公司北方华创微电子自主研发的12英寸原子层沉积(Atomic Layer Deposition，ALD)设备进驻上海集成电路研发中心。北方华创微电子为国产高端装备在先进集成电路芯片生产线的应用再添新秀。

　　ALD设备是先进集成电路制造工艺中必不可少的薄膜沉积设备，ALD工艺具有工艺温度低、薄膜厚度控制精确及台阶覆盖率高等优点。在集成电路特征线宽发展到28纳米节点后，ALD工艺应用日益广泛。北方华创微电子自2014年开始布局ALD设备的开发计划，历时四年，成功推出应用于集成电路领域的量产型单片ALD设备——Polaris A630，应用于沉积集成电路器件中的高介电常数和金属栅极薄膜材料，同期在研的同一产品线的Polaris PE630已经Off line流片，设备的核心技术指标达到国际先进水平，Polaris系列ALD设备具有和PVD、CVD集成同一平台的整合能力，该概念国内首创，客户定制化的集成设备可实现最灵活配置，此设计体现北方华创在多工艺整合的研发能力。

　　截止2018年9月5日，北方华创微电子Polaris系列产品顺利通过上海集成电路研发中心的设备及工艺验证，成为上海集成电路研发中心最为可靠的工艺开发合作伙伴。至此，北方华创微电子已有硅刻蚀机、单片退火设备、Hardmask PVD、Al Pad PVD、单片清洗机、立式炉、ALD等集成电路设备应用于28-14纳米工艺制程，扩展了国产高端装备在集成电路先进制程的配套应用范围。