北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司

# 推荐企业 2013-07-12 11:48 来源：中国电力电子产业网

　　北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司，作为国内领先的高端半导体装备制造企业，我们所开发的刻蚀设备(ETCH)、化学气相沉积设备(CVD)、物理气相沉积设备(PVD)等核心产品已广泛应用于集成电路(Semiconductor)、半导体照明(LED)、微机电系统(MEMS)、功率半导体(Power IC)、先进封装(Advanced Packaging)、光通信(Optical Communication)及化合物半导体(Compound Semi)等尖端领域。北方微电子经过十余年的发展，形成了刻蚀工艺、薄膜工艺、等离子技术、精密机械、自动化及软件、超高真空等核心技术优势，为微电子产业的快速发展提供了值得信赖的产品和服务。秉承科技创新，用户至上的理念，北方微电子正致力于成为一家具有国际影响力的高端装备及工艺解决方案提供商。

　　等离子刻蚀 ETCH

　　♦ 等离子干法刻蚀技术是利用等离子体进行薄膜微细加工的技术。在典型的干法刻蚀工艺过程中，一种或多种气体原子或分子混合于反应腔室中，在外部能量作用下(如射频、微波等)形成等离子体：一方面等离子体中的活性基团与待刻蚀表面材料发生化学反应，生成可挥发产物;另一方面等离子体中的离子在偏压的作用下被引导和加速，实现对待刻蚀表面进行定向的腐蚀和加速腐蚀。干法刻蚀工艺过程是化学反应作用和物理轰击作用的结合。相比于传统的湿法刻蚀技术，干法刻蚀技术由于具有良好的各向异性和工艺可控性已被广泛应用于微电子产品制造领域，如今更是逐渐扩展到LED、封装等泛IC领域。

　　♦ 北方微电子凭借在半导体领域十余年的干法刻蚀产品开发经验和工艺技术，为集成电路、半导体照明、微机电系统、先进封装、光波导等领域提供各种类型的生产和研发的刻蚀系统，满足客户多种制造工艺需求。

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