MiniLED新赛道崛起，NAURA迎风启航
# 电力电子产业网 2020-09-10 09:45 来源： 北方华创
MiniLED、MicroLED在近期成为了市场热词，诸多上市公司的年报中将2020年视为“Mini/MicroLED元年”。未来，4K、8K电视的市场扩张也将进一步带动LED显示技术的需求。作为新一代高清晰度终端显示技术，MiniLED芯片应用已成为行业热点，围绕它的一系列技术瓶颈也急需实现突破，从而带动LED芯片产业的新一轮高速增长。 作为一种新型的LED显示方案，MiniLED在技术方面日趋成熟。基于更小的芯粒尺寸（~100μm）制作需求，MiniLED芯片在工艺方面需要更好的一致性、更高的颗粒控制能力和更优的膜层质量。与传统LED芯片在制程方面存在的差异，是机遇也是挑战，而更先进的技术最终要落脚于更先进的设备。 北方华创近年来始终着力于开发更优性能、更大产能、更智能化的MiniLED设备。基于MiniLED芯片制作对设备性能的需求，NAURA积极布局相关设备研发，涵盖蓝绿光与红黄光芯片工艺，主要产品包括ICP刻蚀机、PECVD、PVD（AIN sputter、Metal sputter、ITO sputter）、ALD等一系列设备。ELEDE® G380A
NAURA LED ICP刻蚀设备（ELEDE® G380A）在传统ICP刻蚀设备的基础上，对上、下电极系统及设备加热控温系统进行了优化设计，实现了刻蚀均匀性的有效提升，完全满足MiniLED芯片的均匀性及边缘利用率要求。此设备适用于MiniLED多种材料刻蚀，覆盖蓝绿、红黄芯片全流程，包括深槽隔离刻蚀（Isolation）、电极刻蚀（Mesa）、介质反射层刻蚀（DBR）及红黄光刻蚀（AlGaInP），具有精准的线宽控制和高速刻蚀能力，可实现稳定量产并具备优异的刻蚀均匀性。设备配置了Cassette in Cassette out自动生产模式，可达到更好的颗粒控制能力。EPEE i800
NAURA LED PECVD设备（EPEE i800）采用托盘载片和多站动态作业模式，为MiniLED芯片制造提供了优良的PECVD工艺解决方案。NAURA通过对镀膜方式进行改进，实现了更优的片内和片间镀膜均匀性；通过对反应腔上、下电极系统的优化设计，实现了更大的单机产能输出。EPEE i800设备的镀膜均匀性、颗粒控制能力以及自动化程度明显提升，可实现工厂端自动化生产，完全满足MiniLED对芯片制造的要求。 ELEDE® G380A与EPEE i800等设备不仅能满足新一代MiniLED制程，还可应用于未来MicroLED制程的研发，其跨世代的工艺能力是客户技术发展及创新的一大助力。 NAURA还可提供对接厂务MES系统或者其他厂务自动化软件的解决方案；全流程自动化解决方案可帮助客户实现生产过程的无人化、信息化和智能化管理。 随着LED显示技术和产品的不断创新，新技术的每一次超越与落地，对于行业发展来说都具有重大意义，NAURA愿与业界同仁一起在半导体显示技术领域锐意进取、开拓创新，共谱新篇章。
